・プラズマを当てることでそもそもの吸着量が増えたからシグナルが上がったのか、脱着が減ったからシグナルが上がったのかどちらですか。
⇒超純水洗浄、TBST洗浄共に吸着量が増加する条件もありますし、TBST洗浄でのみ吸着量が増加し、脱離の程度が小さくなる条件もあるので一概にどっちです、という事は言えないと思います。

・なぜプラズマを当てるのですか。
⇒プラズマ処理とはプラズマ照射によってプラズマ中の電離された分子を表面に修飾して、濡れ性や吸着性を向上させる手法です。半導体やイムノアッセイなど様々な分野で利用可能なものなのでNC膜の表面も同様に修飾されれば吸着性が向上するのではと考えました。

・ポリスチレンプレートなどで行われているものを見たことがあるのですが同じですか。
⇒はい、同じです。酸素プラズマ照射によりポリスチレンプレートで吸着量の増加や活性向上の結果が得られているため、NC膜にも活用できるのではと考え選択しました。

・酸性、アルカリ性で吸着が高いのはなぜですか。
⇒活性自体は失活している結果が得られているため、失活による構造変化によって吸着しやすい状態になっているのではないかと考えています。

・PBSTでなくTBSTを用いている理由はなんですか。
⇒ポリスチレンプレートでの先行研究をもとに選択しました。

・配向制御はしないのですか。
⇒現時点で検討はしていません。

・オゾンプラズマは操作が楽ですよ。
⇒検討してみます。

・酸性、アルカリ性だとやはり抗体は失活するのですね。
⇒はい、失活していると考えられます。